【新品上市】紫外线照射装置 VUM-3073F

  

标题01

这是一种非接触装置,在半导体制造工序、液晶基板制造工序等微细图案形成工序中,对基板表面残留的有机物照射UV,去除有机污染物。可以在不损坏基材的情况下清洁和修饰表面。

标题01
  • 配备独特的低压紫外灯,对基材损伤小,分解有机物能力强。
  • 通过使用振动基板的方式,使UV光均匀地照射基板。
  • 基材不会升温太多。
  • 可以应用消除臭氧的照射方法和清除氮气的照射方法。
 
产品规格

规格

模型 VUM-3073F
二手灯 低压紫外线灯
VUV-040/A-2.2U 4灯
照射距离 15毫米
照射面积 200宽×200深
照射时间 0 至 99 分 59 秒(可变)
废气臭氧去除 使用臭氧分解过滤器
外形尺寸 580(宽)×500(深)×240(高)mm 25kg