【新品上市】 UV照射装置HMW-615N-4

  

标题01

这是一种非接触装置,在半导体制造工序、液晶基板制造工序等微细图案形成工序中,对基板表面残留的有机物照射UV,去除有机污染物。可以在不损坏基材的情况下清洁和修饰表面。

标题01
  • 配备独特的低压紫外灯,对基材损伤小,分解有机物能力强。
  • 通过使用振动基板的方式,使UV光均匀地照射基板。
  • 基材不会升温太多。
  • 可以应用消除臭氧的照射方法和清除氮气的照射方法。
 
产品规格

规格

型式 HMW-615N-4
二手灯 低压紫外线灯
VUV-100/A-5.3U 7灯
照射距離 25毫米
照射面積 400宽×400深
照射時間 任意(最大99分59秒)
废气臭氧去除 使用臭氧分解过滤器
外形尺寸 700(宽)×800(深)×1447(高)